氫氣發(fā)動機(jī)真空箱氦測漏系統(tǒng)按需定制【科儀創(chuàng)新真空】
2021-06-18
氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置
科儀創(chuàng)新產(chǎn)品主要有：薄膜制備設(shè)備，真空冶金設(shè)備，檢漏設(shè)備，真空系統(tǒng)等非標(biāo)真空產(chǎn)品；系列分子泵，離子泵，鈦升華泵，深冷捕集泵等高真空獲得設(shè)備；系列干式渦旋泵，干式爪泵，干式螺桿泵等無油真空獲得設(shè)備；超高真空環(huán)境模擬設(shè)備等高新技術(shù)產(chǎn)品。今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置有哪些，希望對您有所幫助！如需了解更多氦質(zhì)譜檢漏儀的相關(guān)信息，歡迎關(guān)注北京科儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限公司網(wǎng)站或撥打圖片上的電話詢。
1. 檢漏儀專用分子泵
2. 機(jī)械泵或者干泵
3. 定制檢漏儀專用電磁閥
4. 內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)漏口
5. 放大器
6. 采用質(zhì)譜專用模塊
以上是科儀創(chuàng)新為您一起分享的內(nèi)容，科儀創(chuàng)新專業(yè)生產(chǎn)氦檢漏，歡迎新老客戶蒞臨。
氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)
檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會影響檢漏工作的速度，正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測時(shí)，在漏點(diǎn)處噴射氦氣5～10s后，檢漏儀就發(fā)生響應(yīng)，對于如此龐大的真空系統(tǒng)，其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。
檢漏時(shí)噴槍在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍，該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間，即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間，當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大，該間隔時(shí)間也越長。筆者根據(jù)實(shí)測經(jīng)驗(yàn)，兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。整機(jī)由微機(jī)控制，菜單的選擇功能，一個(gè)按鈕即可完成一次的全檢漏過程。
清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同，但由于儀器零件對氦的吸附和脫附作用的影響,清除時(shí)間一般要更長些。筆者測算，在測試到數(shù)量級為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須1分鐘；在測試到數(shù)量級為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須2分鐘；光無源器件有光纖連接器、光開關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。在測試到數(shù)量級為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間在3分鐘左右。
科儀創(chuàng)新?lián)碛邢冗M(jìn)的技術(shù)，我們都以質(zhì)量為本，信譽(yù)高，我們竭誠歡迎廣大的顧客來公司洽談業(yè)務(wù)。如果您對氦檢漏感興趣，歡迎點(diǎn)擊左右兩側(cè)的在線客服，或撥打咨詢電話。
什么是氦質(zhì)譜檢漏儀
氦質(zhì)譜檢漏儀品牌淺析什么是氦質(zhì)譜檢漏儀
氦質(zhì)譜檢漏儀可靠的品質(zhì)保證廣泛的市場應(yīng)用，此款氦質(zhì)譜檢漏儀適用于工業(yè)、分析研究、鍍膜市場等。按照收集氦氣方式的不同，又可以將正壓法分為正壓吸槍法和正壓累積法。此款氦質(zhì)譜檢漏儀堅(jiān)固耐用，抗震性能極強(qiáng)，可反復(fù)使用數(shù)年仍保證的檢漏漏率。氦質(zhì)譜檢漏儀緊湊的設(shè)計(jì)適合串列生產(chǎn)和持續(xù)工作。氦質(zhì)譜檢漏儀主要特點(diǎn)：前級泵配備抽速高達(dá)15 m3/h 旋片泵，對氦氣抽速可達(dá) 2.5l/s，氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 對氦氣的蕞小檢測漏率：
真空模式：5 · 10-13 Pa m3/s
吸槍的模式：5 · 10-10 Pa m3/s
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